SPARK闪光 P43 FD Gd2O2 S:Pr,Ce,F 荧光屏
SPARK闪光 P43 FD Gd2O2 S:Pr,Ce,F 荧光屏
荧光屏的应用范围广泛：电子、X 射线、紫外线、带电粒子等的检测。针对预期目的定制层排列和厚度优化。可提供各种玻璃类型和光纤上的标准格式基材。根据要求，可以根据客户图纸或客户提供的基材进行加工。
● P43、P46、P47、P11等闪烁体
● 可分割涂层区域
● 传感器尺寸 100x100mm²
● 涂层厚度可达 25μm
荧光屏的应用范围广泛：电子、X 射线、紫外线、带电粒子等的检测。针对预期目的定制层排列和厚度优化。可提供各种玻璃类型和光纤上的标准格式基材。根据要求，可以根据客户图纸或客户提供的基材进行加工。
● P43、P46、P47、P11等闪烁体
● 可分割涂层区域
● 传感器尺寸 100x100mm²
● 涂层厚度可达 25μm
产品参数：
| 类型/成分 |
P43 Gd2O2S:Tb |
P43 FD Gd2O2 S:Pr,Ce,F |
P46 Y3Al5O12:Ce |
P47 Y2SiO5:Ce |
|
| 发光 | 范围 | 360 - 680nm | 480 - 780nm | 490 - 620nm | 370 - 480nm |
| 最大限度 | 545nm | 513nm | 530nm | 400nm | |
| 相对效率* | 1 | 0.95 | 0.4 | 0.56 | |
| 衰减时间 | 90% 至 10% | 1ms | 4μs | 30ns | 100ns |
| 10% 至 1% | 1.6ms | 90μs | 2.9μs | ||
| 激发 | 电子 | + | + | + | + |
| X射线 | + | + | - | - | |
| 紫外线（峰值灵敏度） | + (<300 nm) |
+ (<305 nm) |
+ (<465 nm) |
+ (<360 nm) |
|
| α辐射 | + | + | + | + | |
| β辐射 | + | + | + | + | |
| γ辐射 | + | + | - | - | |
| 中子 | + | + | - | - | |
发射光谱
描述
可用的附加涂层：
ITO(氧化铟锡)
导电底涂层可减少电子和离子引起的静电效应或施加电势。 ITO 涂层也称为 NESA 涂层。可以实现标准和特殊的导电参数。
铝反光涂层
为了将光效率提高高达 100% 并减少杂散光，对于大多数应用而言，在其顶部使用铝层密封荧光粉涂层是有利的。作为标准，建议使用 40 nm 至 50 nm 涂层，但根据特殊要求，厚度可在 40 nm 至 130 nm 之间变化。对于电子来说，需要3 kV的加速电压才能穿透标准的铝反射层。通过使用铝涂层，荧光屏的最大直径减小了 1 毫米，以允许铝层和基板之间的接触。
铬环
允许与荧光屏直接电接触，可以在基板的外部区域溅射宽度达 100 毫米直径的铬环。这确实将荧光体的面积减小到铬环的内径。
可选涂层：
水玻璃
为了提高荧光屏的机械稳定性，可以在沉淀过程中添加水玻璃。
以这种方式制造的屏幕可以抵抗轻微的手指触摸。由于基质中磷光体颗粒密度的降低，该制造工艺导致效率降低 30% 至 40%。
基材上的光学标记
根据客户的要求在玻璃和光纤基板上设置参考标记。
特征：
形状：圆形、矩形、棱柱、台阶板
基材：各种玻璃、光纤、金属、CCD 和 CMOS 传感器
荧光粉：P43、P43 快衰、P46、P47 以及其他可根据要求提供的荧光粉
荧光粉层：4 - 40μm
可选层：ITO、铝、铬
集成：真空法兰
标准基材
圆形、扁形
| 材料 | 直径/毫米 | 厚度/毫米 |
| B270 和熔融石英 | 5,0 | 1,0 |
| 20,0 | 2,0 | |
| 25,0 | 3,0 | |
| 25,0 | 3,0 | |
| 50,0 | 3,0 | |
| 75,0 | 3,0 | |
| 100,0 | 3,0 |
圆形带台阶
| 材料 | 外径/毫米 | 台阶直径/mm | 台阶高度/mm |
总厚度/mm |
| 硼硅酸盐 | 50,0 | 42,0 | 2,0 | 4,0 |
| 50,0 | 42,0 | 2,4 | 4,4 | |
| 86,0 | 77,0 | 2,4 | 4,4 |
| 材料 | 外径/毫米 | 台阶直径/mm | 台阶高度/mm | 总厚度/mm |
| 石英 | 38,1 | 29,2 | 2,45 | 4,4 |
| 材料 | 外径/毫米 | 台阶直径/mm | 台阶高度/mm | 总厚度/mm |
| 光纤 | 28,5 | 27,0 | 2,5 | 15,0 |
| 38,1 | 29,2 | 2,45 | 5,5 | |
| 42,0 | 40,0 | 2,0 | 15,0 | |
| 55,0 | 44,7 | 2,45 | 5,5 |
棱镜
| 材料 | 内管长度/mm | 长度斜线/mm/mm |
| N-BK7 | 20,0 | 28,3 |
| 40,0 | 56,0 |
锥度
| 材料 | 长宽比/毫米:毫米 |
| 光纤 | 25,8 |
| 22,15 | |
| 25,11 | |
| 25,13.5 | |
| 40,11 | |
| 40,13.5 |
闪烁箔最典型的应用是 X 射线成像、同步加速器辐射、中子和离子成像。荧光粉涂层是通过层压工艺在基材(普通玻璃、金属或由 Kapton 的 PMMA 制成的箔片)上制备的。
我们的层压工艺产生均匀的层结构。为了保证均匀的层结构，至少需要 30μ 的最小层厚度。闪烁层涂层的最大厚度可达约。 150微米。
该屏幕在真空条件下稳定，可耐受高达 400°C 的温度。
基材可由客户提供，或者德国Photonis可以管理特殊定制基材的采购服务。
手机/微信：13242449659电话：0755-89355351 QQ：842471885 邮箱：842471885@qq.com