EXCELITAS 埃塞力达 多光谱成像窗口
EXCELITAS 埃塞力达 多光谱成像窗口 在按照行业最高的性能和质量标准进行光学制造和抛光各种材料和几何形状方面,埃赛力达的能力举世闻名。借助包括主轴抛光、CNC抛光、金刚石车削和连续抛光在内的一系列工艺,埃赛力达拥有满足您最具挑战性的成像窗口需求的专业知识。 规格 典型的光学涂层元件性能: 锗 波长 平均T 平均R 绝对T 绝对R 8.0-12.0 μm ≥97% ≤0.5% ≥93% ≤1% 7.5-13.5 μm ≥96% ≤1% ≥85% ≤4% 硅 波长 平均T 平均R 绝对T 绝对R 3.0-5.0 μm ≥98% ≤0.5% ≥94% ≤1.5% ZnSe 波长 平均T 平均R 绝对T 绝对R 8.0-12.0 μm ≥98% ≤0.5% ≥96% ≤1% 7.5-13.5 μm ≥97% ≤0.5% ≥93% ≤1.5% 2.0-13.0 μm ≥93% ≤2.5% ≥83% ≤5.0% 7.5-14.0 μm ≥92% ≤2.5% ≥80% ≤6.0% 尺寸最大为330mm 典型环境测试 典型环境测试 附着力 MIL-C-48497A para. 4.5.3.1 胶带测试 湿度 MIL-C-48497A para. 4.5.3.2...
分类:
货号:
多光谱成像窗口
相关产品
描述
EXCELITAS 埃塞力达 多光谱成像窗口
在按照行业最高的性能和质量标准进行光学制造和抛光各种材料和几何形状方面,埃赛力达的能力举世闻名。借助包括主轴抛光、CNC抛光、金刚石车削和连续抛光在内的一系列工艺,埃赛力达拥有满足您最具挑战性的成像窗口需求的专业知识。
典型的光学涂层元件性能:
锗
波长 | 平均T | 平均R | 绝对T | 绝对R |
---|---|---|---|---|
8.0-12.0 μm | ≥97% | ≤0.5% | ≥93% | ≤1% |
7.5-13.5 μm | ≥96% | ≤1% | ≥85% | ≤4% |
硅
波长 | 平均T | 平均R | 绝对T | 绝对R |
---|---|---|---|---|
3.0-5.0 μm | ≥98% | ≤0.5% | ≥94% | ≤1.5% |
ZnSe
波长 | 平均T | 平均R | 绝对T | 绝对R |
---|---|---|---|---|
8.0-12.0 μm | ≥98% | ≤0.5% | ≥96% | ≤1% |
7.5-13.5 μm | ≥97% | ≤0.5% | ≥93% | ≤1.5% |
2.0-13.0 μm | ≥93% | ≤2.5% | ≥83% | ≤5.0% |
7.5-14.0 μm | ≥92% | ≤2.5% | ≥80% | ≤6.0% |
尺寸最大为330mm
典型环境测试
典型环境测试 | |
附着力 MIL-C-48497A para. 4.5.3.1 | 胶带测试 |
湿度 MIL-C-48497A para. 4.5.3.2 | 24hrs. 49 deg. C 95-100% 相对湿度 |
磨损 MIL-C-48497A para. 4.5.3.3 | 中等,50次击打,采用粗棉布 |
手机/微信:13242449659电话:0755-89355351 QQ:842471885 邮箱:842471885@qq.com